ISO 17331:2004/Amd.1:2010 Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра. Изменение 1. Химический анализ
Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of siliconwafer working reference materials and their determination by total-reflection Xray fluorescence (TXRF) spectroscopy -- Amendment 1 Analyse chimique
