Товары в корзине: 0 шт Оформить заказ
Стр. 1
 

3 страницы

107.00 ₽

Купить ГОСТ 25196-82 — официальный бумажный документ с голограммой и синими печатями. подробнее

Официально распространяем нормативную документацию с 1999 года. Пробиваем чеки, платим налоги, принимаем к оплате все законные формы платежей без дополнительных процентов. Наши клиенты защищены Законом. ООО "ЦНТИ Нормоконтроль".

Наши цены ниже, чем в других местах, потому что мы работаем напрямую с поставщиками документов.

Способы доставки

  • Срочная курьерская доставка (1-3 дня)
  • Курьерская доставка (7 дней)
  • Самовывоз из московского офиса
  • Почта РФ

Распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники

  Скачать PDF

Ограничение срока действия снято: Протокол № 2-92 МГС от 05.10.92 (ИУС 2-93)

Показать даты введения Admin

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ СТАНДАРТ

СОЮЗА ССР

ОБОРУДОВАНИЕ ВАКУУМНОЕ. УСТАНОВКИ ДЛЯ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ

ОБЩИЕ ТЕХНИЧЕСКИЕ ТРЕБОВАНИЯ

ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80)

Издание официальное

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР ПО СТАНДАРТАМ

Москва

УДК 621.52:621.38.002.5 :006.354    Группа    Э71

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ СТАНДАРТ СОЮЗА ССР

ГОСТ

25196—82

(СТ СЭВ 2760—80)

ОБОРУДОВАНИЕ ВАКУУМНОЕ. УСТАНОВКИ ДЛЯ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ

Общие технические требования

Vacuum equipment. Apparatus for ion implantation. General technical requirement

ОКП 62 7335

Постановлением Государственного комитета СССР по стандартам от 31 марта

1982 г. № 1383 срок действия установлен

с 01.07 1983 г. до 01.07 1988 г.

Несоблюдение стандарта преследуется по закону

1.    Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации (далее — установки), предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,660 57*10~27 до 217,534 67-10~27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6-10~15 до 1,6-10-13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники.

Стандарт полностью соответствует СТ СЭВ 2760—80.

2.    Технические требования к установкам — по ГОСТ 24686-81.

3.    Установки должны обеспечивать один из режимов обработки изделий:

поштучный;

групповой;

комбинированный.

Издание официальное

4.    Число пластин, обрабатываемых за один цикл на установке, должно быть кратным 25.

Перепечатка воспрещена

Издательство стандартов, 1982

Стр. 2 ГОСТ 25196-82

5.    Предельное остаточное давление в установке должно быть не более 1,3-10~4 Па.

6.    Минимальный ионный ток следует выбирать из ряда: 0,01 -0,1; 1; 10; 100; 500; 1000 мкА.

7.    Максимальный ионный ток следует выбирать из ряда: 0,03; 0,1; 0,5; 1; 2; 5; 10 мА.

8.    Неравномерность дозы имплантации следует выбирать из ряда: 0,5; 1; 2; 4%.

9.    Показатели надежности установок следует определять наработкой на отказ, средним временем восстановления и средним ресурсом в соответствии с ГОСТ 24786-81.

Наработку на отказ следует выбирать из ряда: 100, 125, 160, 200, 250, 400, 500, 630, 800, 1000 ч.

Среднее время восстановления должно быть не более 4 ч.

Средний ресурс следует выбирать из ряда: 5000, 5600, 6300, 7100, 8000, 9000, 10000 ч.

Редактор Е. И. Глазкова Технический редактор Б. Н. Малькова Корректор Г. М. Фролова

Сдано в наб 13 04 82 Подп. к печ. 04 05 82 0,25 п. л. 0,11 уч-изд. л. Тир. 10000 Цена 3 коп.

Ордена «Знак Почета» Издательство стандартов, 123557, Москва, Новопресненский пер., 3 Тип. «Московский печатник». Москва, Лялин пер., 6. Зак. 517